الملف الأصلي(915 × 650 بكسل حجم الملف: 23 كيلوبايت، نوع MIME: image/png)

الوصف
English: Schematic representation of an electron (e, right) tunnelling through a barrier of "height" (vertical dimension is energy) e*V_b and thickness (horizontal dimension is spatial) d_b. e is the elementary charge, -1.6E-19 Coulomb, V is the bias voltage leading to a current flowing between the right and the left "electrode" (side of the barrier).
التاريخ Göteborg 1999
المصدر Created by Torsten Henning and published in Charging effects in niobium nanostructures, PhD thesis, Mikroelektronik och Nanovetenskap, Chalmers Tekniska Högskola AB och Göteborgs Universitet, Göteborg 1999. Full text available online [1] as www.arxiv.org e-print cond-mat/9901308.
المؤلف Torsten Henning
w:ar:مشاع إبداعي
نسب العمل إلى مُؤَلِّفه
يحقُّ لك:
  • مشاركة العمل – نسخ العمل وتوزيعه وبثُّه
  • إعادة إنتاج العمل – تعديل العمل
حسب الشروط التالية:
  • نسب العمل إلى مُؤَلِّفه – يلزم نسب العمل إلى مُؤَلِّفه بشكل مناسب وتوفير رابط للرخصة وتحديد ما إذا أجريت تغييرات. بالإمكان القيام بذلك بأية طريقة معقولة، ولكن ليس بأية طريقة تشير إلى أن المرخِّص يوافقك على الاستعمال.

الشروحات

أضف شرحاً من سطر واحد لما يُمثِّله هذا الملف

العناصر المصورة في هذا الملف

يُصوِّر

تاريخ الملف

اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.

زمن/تاريخصورة مصغرةالأبعادمستخدمتعليق
حالي15:34، 12 أكتوبر 2005تصغير للنسخة بتاريخ 15:34، 12 أكتوبر 2005915 × 650 (23 كيلوبايت)DrTorstenHenning{{English}} Schematic representation of an electron (e, right) tunnelling through a barrier of "height" (vertical dimension is energy) e*V_b and thickness (horizontal dimension is spatial) d_b. e is the elementary charge, -1.6E-19 Coulomb, V is the b

الصفحة التالية تستخدم هذا الملف:

الاستخدام العالمي للملف

الويكيات الأخرى التالية تستخدم هذا الملف: