ويكيبيديا

ملف:Ion implanter schematic.png

Ion_implanter_schematic.png ‏(500 × 486 بكسل حجم الملف: 32 كيلوبايت، نوع MIME: image/png)

ملخص

الوصف
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
التاريخ
المصدر عمل شخصي
المؤلف Daniel Schwen
إصدارات أخرى
  • الروسية .svg
    الروسية .svg
  • الإنجليزية .svg
    الإنجليزية .svg
يُمثِّل: File:Ion implanter schematic.svg نسخةً شعاعيَّةً لهذه الصورة. ينبغي أن تستخدم الصورة الشعاعيَّة عندما تكون أعلى جودةً مِن الصورة النقطيَّة.
File:Ion implanter schematic.png → File:Ion implanter schematic.svg
للمزيد من المعلومات، راجع صفحة Help:SVG.
بلغات أخرى
Alemannisch ∙ Bahasa Indonesia ∙ Bahasa Melayu ∙ British English ∙ català ∙ čeština ∙ dansk ∙ Deutsch ∙ eesti ∙ English ∙ español ∙ Esperanto ∙ euskara ∙ français ∙ Frysk ∙ galego ∙ hrvatski ∙ Ido ∙ italiano ∙ lietuvių ∙ magyar ∙ Nederlands ∙ norsk bokmål ∙ norsk nynorsk ∙ occitan ∙ Plattdüütsch ∙ polski ∙ português ∙ português do Brasil ∙ română ∙ Scots ∙ sicilianu ∙ slovenčina ∙ slovenščina ∙ suomi ∙ svenska ∙ Tiếng Việt ∙ Türkçe ∙ vèneto ∙ Ελληνικά ∙ беларуская (тарашкевіца) ∙ български ∙ македонски ∙ нохчийн ∙ русский ∙ српски / srpski ∙ татарча/tatarça ∙ українська ∙ ქართული ∙ հայերեն ∙ বাংলা ∙ தமிழ் ∙ മലയാളം ∙ ไทย ∙ 한국어 ∙ 日本語 ∙ 简体中文 ∙ 繁體中文 ∙ עברית ∙ العربية ∙ فارسی ∙ +/−
صورة SVG جديدة

This image (or all images in this category) uses inside labels or attached captions in a specific script or language and should be converted to a language neutral form. This would allow its use in all Wikimedia projects and, more importantly, all Wikimedia languages.

Bahasa Melayu ∙ català ∙ čeština ∙ Deutsch ∙ English ∙ español ∙ français ∙ italiano ∙ magyar ∙ Nederlands ∙ Plattdüütsch ∙ português ∙ sicilianu ∙ slovenčina ∙ suomi ∙ беларуская (тарашкевіца)‎ ∙ македонски ∙ русский ∙ српски / srpski ∙ 한국어 ∙ 日本語 ∙ 中文 ∙ 中文（简体）‎ ∙ فارسی ∙ +/−

ترخيص

GNU head يسمح نسخ وتوزيع و/أو تعديل هذه الوثيقة تحت شروط رخصة جنو للوثائق الحرة، الإصدار 1.2 أو أي إصدار لاحق تنشره مؤسسة البرمجيات الحرة؛ دون أقسام ثابتة ودون نصوص أغلفة أمامية ودون نصوص أغلفة خلفية. نسخة من الرخصة تم تضمينها في القسم المسمى GNU Free Documentation License.
w:ar:مشاع إبداعي
نسب العمل إلى مُؤَلِّفه الإلزام بترخيص المُشتقات بالمثل 		هذا الملفُّ مُرخَّص بموجب رخصة المشاع الإبداعي نسبة المُصنَّف إِلى مُؤَلِّفه - المشاركة بالمثل 3.0 العامة
يحقُّ لك:
  • مشاركة العمل – نسخ العمل وتوزيعه وبثُّه
  • إعادة إنتاج العمل – تعديل العمل
حسب الشروط التالية:
  • نسب العمل إلى مُؤَلِّفه – يلزم نسب العمل إلى مُؤَلِّفه بشكل مناسب وتوفير رابط للرخصة وتحديد ما إذا أجريت تغييرات. بالإمكان القيام بذلك بأية طريقة معقولة، ولكن ليس بأية طريقة تشير إلى أن المرخِّص يوافقك على الاستعمال.
  • الإلزام بترخيص المُشتقات بالمثل – إذا أعدت إنتاج المواد أو غيرت فيها، فيلزم أن تنشر مساهماتك المُشتقَّة عن الأصل تحت ترخيص الأصل نفسه أو تحت ترخيص مُتوافِقٍ معه.
تمت إضافة علامة الترخيص لهذا الملف كجزء من رخصة جنو للوثائق الحرة تحديث الترخيص.

الشروحات

أضف شرحاً من سطر واحد لما يُمثِّله هذا الملف

العناصر المصورة في هذا الملف

يُصوِّر

البداية

٣ يوليو 2005

تاريخ الملف

اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.

زمن/تاريخصورة مصغرةالأبعادمستخدمتعليق
حالي21:48، 3 يوليو 2005تصغير للنسخة بتاريخ 21:48، 3 يوليو 2005500 × 486 (32 كيلوبايت)DschwenSchematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u

الصفحة التالية تستخدم هذا الملف:

الاستخدام العالمي للملف

الويكيات الأخرى التالية تستخدم هذا الملف:

مجلوبة من «https://ar.wikipedia.org/wiki/ملف:Ion_implanter_schematic.png»