ملف:CMOS fabrication process.svg
حجم معاينة PNG لذلك الملف ذي الامتداد SVG: 141 × 599 بكسل. الأبعاد الأخرى: 56 × 240 بكسل | 113 × 480 بكسل | 180 × 768 بكسل | 241 × 1٬024 بكسل | 481 × 2٬048 بكسل | 512 × 2٬176 بكسل.
الملف الأصلي (ملف SVG، أبعاده 512 × 2٬176 بكسل، حجم الملف: 7 كيلوبايت)
تاريخ الملف
اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.
زمن/تاريخ | صورة مصغرة | الأبعاد | مستخدم | تعليق | |
---|---|---|---|---|---|
حالي | 16:29، 9 أكتوبر 2011 | 512 × 2٬176 (7 كيلوبايت) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is |
استخدام الملف
لا توجد صفحات تستخدم هذا الملف.
الاستخدام العالمي للملف
الويكيات الأخرى التالية تستخدم هذا الملف:
- الاستخدام في ca.wikipedia.org
- الاستخدام في cs.wikipedia.org
- الاستخدام في en.wikipedia.org
- الاستخدام في fa.wikipedia.org
- الاستخدام في fi.wikipedia.org
- الاستخدام في id.wikipedia.org
- الاستخدام في it.wikipedia.org
- الاستخدام في ja.wikipedia.org
- الاستخدام في pt.wikipedia.org
- الاستخدام في sh.wikipedia.org
- الاستخدام في sr.wikipedia.org
- الاستخدام في www.wikidata.org
- الاستخدام في zh.wikipedia.org