إكسيمر: الفرق بين النسختين
| [نسخة منشورة] | [نسخة منشورة] |
تم حذف المحتوى تمت إضافة المحتوى
لا ملخص تعديل |
|||
سطر 9:
==تحضيرها وتحللها ==
==تقنية الليزر==
تستخدم بعض مواد الإكسيمر في إنتاج أشعة [[الليزر]] .
In der Lasertechnologie werden die Eigenschaften von Excimeren (bzw. heute meist Exciplexen) durch [[Excimerlaser]] für konkrete Anwendungsfälle genutzt. Die für die Lasertechnik notwendige Besetzungsinversion ist bereits durch die Molekülbildung gegeben, da hierbei der Grundzustand nicht besetzt sein darf. Die [[Zerfallszeit]] beträgt i.A. wenige [[Nanosekunde]]n (ns). Praktische Bedeutung haben Excimerlaser erlangt, die im [[ultraviolett]]en Spektralbereich emittieren. Das laseraktive Medium besteht hierbei überwiegend aus Fluor (F<sub>2</sub>) 157 nm, Argonfluorid (ArF) 193 nm, Kryptonfluorid (KrF) 248 nm, Xenonchlorid (XeCl) 308 nm oder Xenonfluorid (XeF) 351 nm. Sie finden Einsatz in der [[Medizintechnik]] und in der [[Fotolithografie (Halbleitertechnik)|Fotolithografie]], einem Bereich der [[Halbleiter|Halbleiterherstellung]].
== المراجع ==
{{ثبت_المراجع}}
| |||