ثغرة إلكترونية: الفرق بين النسختين

[نسخة منشورة][نسخة منشورة]
تم حذف المحتوى تمت إضافة المحتوى
سطر 21:
==تأثير مجال كهربائي==
 
عندما يوضع شبه الموصل تحت جهد كهربائي تشترك كل من الإلكترونات (وهي سالبة الشحنة) والثغرات (وهي موجبة الشحنة ]]) في نقل التيار الكهربائي.
 
وبينما تتحرك الإلكترونات المتحررة بحرية فلا تستطيع الثغرات الموجبة التحرك بسبب ثباتها في موقعها في البلورة . وإنما يمكن تخيل حركتها من كون الإلكترونات تقفز بين ثغرة و ثغرة ، فتبدو كما لو كانت الثغرات الموجبة تتحرك في عكس اتجاه حركة الإلكترونات.
 
وتوجد طريقة أخرى لنشأة الثغرات الإلكترونية في شبه الموصل وذلك عن طريق [[تشويب|تشويبه]] بذرات مختلفة عنه . ففي شبه الموصل تتسبب الذرات الغريبة في تكون مستويات للطاقة في الذرة
في نطاقات فارغة من الإكترونات . وهي تتسم بأن الطاقة الازمة لتحرير أحد الإلكترونات في شبه الموصل المشوب تكون أقل عن الطاقة اللازمة لتحرير [[إلكترون]] في شبه الموصل النقي .
 
 
Eine weitere Möglichkeit der Erzeugung von Defektelektronen ist die Anregung von Fremdatomen in Halbleiterkristallen.
In einem Halbleitereinkristall erzeugen Fremdatome Energieniveaus innerhalb der [[Bandlücke]]. Für eine Anregung ist daher weniger Energie notwendig als in einem reinen Halbleiterkristall. Aus diesem Grund ist bereits bei niedrigen Temperaturen ein deutlicher Anstieg der Leitfähigkeit zu beobachten; man spricht in diesem Fall von [[Störstellenleitung]].
Je nach [[Wertigkeit (Chemie)|Wertigkeit]] des Fremdatoms können verschiedene [[Störstelle]]n entstehen.
In der Halbleitertechnik werden solche Fremdatome (für Silicium meist [[Bor]] bzw. [[Phosphor]]) in den Halbleiterkristall eingebracht ([[Dotierung]]), um die Leitfähigkeit des Ausgangsmaterials gezielt zu verändern.