أكسدة حرارية
.
الأكسدة الحرارية [1] هي عملية صناعية في مجال تشطيب سطوح الرقائق السيليكونية تهدف إلى تشكيل غشاء رقيق من ثنائي أكسيد السيليكون، وذلك بإجبار مؤكسد على الانتشار في الرقاقة عند درجات حرارة مرتفعة.
تجرى عملية الأكسدة الحرارية عند درجات حرارة تتراوح بين 800 °س إلى 1200 °س، ويمكن أن تجرى إما باستخدام بخار الماء مرتفع النقاوة أو باستخدام الأكسجين الجزيئي.
يمكن أن يستقرأ معدل نمو طبقة ثنائي أكسيد السيليكون على رقاقة السيليكون باستخدام نموذج ديل-غروف (Deal–Grove model).[2]
طالع أيضاً عدل
المراجع عدل
- ^ "قاموس المعاني". مؤرشف من الأصل في 2021-05-04.
- ^ Liu، M.؛ وآخرون (2016). "Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires". Theoretical and Applied Mechanics Letters. ج. 6 ع. 5: 195–199. DOI:10.1016/j.taml.2016.08.002.
| أكسدة حرارية في المشاريع الشقيقة: | |
| |
